制造国产光刻机，中国科技公司走了一条不同于ASML的技术路线

2018-12-29 20:49:43 网络整理阅读：65 评论：0

发展国产芯片是亿万中国老百姓的梦想，在2018年，国产芯片在挫折中前进，虽然遭遇了“国外阻击战”，但依然取得不凡的成绩，国产首台22nm超分辨的光刻机就是一个重要的进步成果。如果我们深度地观察这台机器，不得不感到佩服：国产光刻机走上了一条不同于荷兰ASML的技术路线。

目前我们已经能够制造出了22nm的光刻机，虽然在制程上落后ASML公司好几代，但如果我们从技术上深度“解剖”国产22nm光刻机，你就是发现其中的厉害之处。22nm光刻机在前几年就有了，我们既然要做这台超分辨光刻机，自然不是“有样学样”那么简单，而是有很多自主创新！

制造国产光刻机，中国科技公司走了一条不同于ASML的技术路线

我们采用的是DUV下的365nm光源加工出了22nm的分辨率，这跟荷兰ASML采用EUV光刻机的13.5nm光源加工极限为7nm的分辨率的技术原理很大不同。国产光刻机用DUV技术打破了传统的衍射极限，，EUV技术虽然先进但但受限于衍射效应是有极限的。